?    等離子滲氮是一種十分有效的生成界面膜層的熱處理方式。輝光放電等離子體中氮擴散進(jìn)(jìn)入膜層中，從而增強工件表面硬度。工藝過(guò)(guò)程中待處理工件為陰極，通入氫氣及氮氣的混合氣體，在數百伏特及50~500Pa壓力下對陽(yáng)(yáng)極施偏壓。陰極勢降中，由于基體表面溫度高達450℃以上，氮離子獲得加速并撞擊基體表面從而氮元素滲入工具內部。通過(guò)(guò)這種方式可形成含鐵或鉻、鉬、鋁及鎂等的氮化物化合層及擴散層。其表面硬度可達1000HV，甚至更高。通常工件表面主要是被稱(chēng)(chēng)作為白層的鐵氮化合物。氮含量可以根據應用需要進(jìn)(jìn)行調節，甚至完全抑制以便為后續的硬質(zhì)(zhì)材料涂層創(chuàng )(chuàng )造更好的表面條件。生成的擴散層從工件表面至核心幾十毫米的硬度降低非常平緩。
    在工業(yè)(yè)化沉積硬質(zhì)(zhì)膜方面，電弧蒸發(fā)(fā)工藝因其簡(jiǎn)(jiǎn)單便捷而占據著(zhù)(zhù)非常重要的地位。工藝過(guò)(guò)程中，鍍層金屬因為所產(chǎn)(chǎn)生的電弧在表面邊界快速移動(dòng)(dòng)而獲得蒸發(fā)(fā)、電離，在工件底盤(pán)(pán)通負偏壓情況下,金屬離子加速撞擊到工件上。電弧蒸發(fā)(fā)工藝單純采用物理方法使金屬蒸發(fā)(fā)，而不包括任何中介揮發(fā)(fā)性化合物，因此是一種典型的PVD（物理氣相沉積）工藝。通過(guò)(guò)添加含氮或含碳氣體，可形成氮化物和碳化物金屬薄膜。薄膜具有非常高的微硬度、低摩擦性能和很好的化學(xué)(xué)惰性。通常當工藝溫度在180℃以上時(shí)(shí),可以獲得高質(zhì)(zhì)量的鍍層。因此，PVD工藝也可以適用于滲碳鋼。氮化和涂層技術(shù)(shù)的特點(diǎn)(diǎn)使對總體長(cháng)(cháng)度達4m的工件進(jìn)(jìn)行組合處理成為可能。同時(shí)(shí)，還可組合處理直徑1.5m、長(cháng)(cháng)度2m的大組件。